AL-MLDMHS20型 微波制备大面积金刚石膜散热片反应仪

仪器简介：

AL-MLDMHS20型 微波制备大面积金刚石膜散热片反应仪是根据我公司的控制技术并按照高校广大师生需求设计的产品，此AL-MLDMHS20型 微波制备大面积金刚石膜散热片反应仪主要特点是采用915MHz微波频率，2000W高功率固态微波源，微波稳定输出。可以对200mm直径的衬底沉积金刚石薄膜。

AL-MLDMHS20型 微波制备大面积金刚石膜散热片反应仪具有控温无误、7寸显示屏显示、触摸控制、操作简单方便，可以存储数据。AL-MLDMHS20型 微波制备大面积金刚石膜散热片反应仪具有强大的数字处理功能，实时在线显示和记录反应数据和曲线图像，程序控制反应条件，可将实验分为多个工作阶段，可随时在线修改不适宜反应条件参数，具有保存和查询实验记录的功能。

AL-MLDMHS20型 微波制备大面积金刚石膜散热片反应仪作用原理是在化学气相沉积（CVD）基础上利用微波辐射，产生等离子体。在微波等离子化学气相沉积（MPCVD）的技术下，碳原子通常以薄膜形式沉积在衬底表面。其中高温衬底为到达表面的活性基团提供能量，使其能迁移并找到合适的位置成键。

应用领域：

AL-MLDMHS20型 微波制备大面积金刚石膜散热片反应仪适用于制备大面积金刚石膜、大尺寸宝石级单晶钻石、高取向度金刚石晶体、纳米结晶金刚石、石墨烯材料、Al₂O₃、SiOx、TiN、TiCN、金刚石涂层等。在金属、玻璃、聚合物以及其他材料表面沉积有机或无机薄膜来保护其他表面不被腐蚀或改变其表面硬度、增强耐磨性能等。

AL-MLDMHS20型 微波制备大面积金刚石膜散热片反应仪能催化完成微波等离子体相关应用，包括但不限于以下方面：

1、半导体加工：在半导体的蚀刻、溅射、气相沉积、氧化硅片等生产工艺中使用微波等离子体技术。

2、表面处理：应用于金属、合金、非金属的表面处理，如金属表面的清洗和强化。

技术参数：

1、微波频率：915MHz；

*2、微波功率:0-2000W，功率自由设置，微波功率随温度自动变频控制，非脉冲连续加热；

*3、微波功率上限随意设置，并且具有设置功率下限功能，保证一直有功率输出；

*4、微波控温方式3种，分别是以设置的上限功率加热到设定温度然后保温模式、初始温度经过设置的时间到达设定温度从而达到缓慢升温效果的速率升温模式、设置每分钟升温温度度数的升温斜率模式；

5、2位高精度非接触式红外温度传感器，实时监测反应物温度以及圆形衬底台温度，准确控制反应进程；

*6、红外测温和控温范围:0～1200℃；具有速率升温功能；

7、红外测温精度:≤±1.5℃ 控温精度:≤±2℃；

*8、微波控温采用无误AI人工智慧逻辑算法 ，实现复杂长滞后对象无误控制，保证控温无误，杜绝出现超温、低温等现象；

*9、衬底台中内置辅助电阻加热器，功率0-4000W，功率自由设置，功率随温度自动控制；

*10、衬底台中内置接触式K型热电偶温度传感器，实时监测衬底台的温度，并且进行反馈控制辅助电阻加热器的功率；

11、K型热电偶测温和控温范围:0～1200℃；

12、K型热电偶测温精度:≤±2℃ 控温精度:≤±2℃；

*13、压力控制范围：0~50KPa，压力传感器量程：0～100KPa，耐压上限1MPa，控压精度：0.2kPa；

14、20升316L奥氏体不锈钢腔体，表面耐腐蚀、耐高温性强；

15、具备冷却水管路：用于冷却反应腔体、微波源等发热部件；

16、盖子上具备观测的观察窗口；

*17、微波系统组成：微波环行器，水负载以及连接波导组成。保护固态微波源，可连续不间断持续工作。系统驻波系数：VSWR≤1.5；

18、7英寸高亮度TFT液晶显示触摸屏直接操作，Cortex-A8 CPU核心，配备USB接口；实时显示反应温度和功率数据，并显示曲线，可以保存和查询实验记录；

*19、具备：4路反应气体进入管路，再混合成1路送入腔体内；

20、具备：真空管路用于抽真空；

21、具备：尾气处理管路用于安全排放反应产生的危险或有害气体；

22、可以进行气氛、真空以及微正压环境下反应实验；

23、微波泄漏符合国家标准。

*表示我公司优势技术。